半导体巨头抢入20纳米设备厂展开新一轮抢

随着台积电、英特尔、三星等半导体大厂将在明年微缩制程进入20纳米以下世代，设备厂也展开新一波的抢单计划。

在应用材料于其SEMVision系列设备上引进首创缺陷检测扫瞄电子显微镜（DR SEM）技术后，另一设备大厂科磊（KLA Tencor）21日宣布，同步推出新一化光学及电子束晶圆缺陷检测系统。随着两大设备厂已抢进台积电及英特尔供应链，对于国内设备厂汉微科来说竞争压力大增。

虽然半导体市场下半年景气能见度不高，但是包括台积电、英特尔、三星、格罗方德（GlobalFoundries）、联电等大厂，仍积极投入扩充新产能，尤其是明年将相继跨入20纳米，后年则会进入16纳米或14纳米鳍式场效晶体管（FinFET）世代，也因此，国内外设备大厂已积极布局争取商机。

在晶圆缺陷检测设备市场上，国内设备厂汉微科靠着电子束检测设备打响名号，现在已新机场临空经济区建设将是跨区域合作的一个重要契机经打入台积电、三星、英特尔等大厂供应链。由于缺陷检测攸关制程良率的提升速度，国际大厂如应用材料、科磊等，也已在光学及电子束检测设备市场推出新一代产品，同样也获得台积电、英特尔等大厂青睐及采用。

应用材料已在其SEMVision系列设备上，推出一套最新缺陷检测及分类技术，该设备的缺陷分析系统结合前所未有高分辨率、多维影像分析功能，及革命性创新的Purity自动化缺陷分类（ADC）系统高智能的机器学习算法，同时为半导体产业引进首创缺陷检测扫瞄电子显微镜技术，并可支持到10纳米制程。

科磊昨日在科技论坛中宣布推出采用NanoPoint技术的光学晶圆缺陷检测平台及新型eDR-7100电子束晶圆缺陷检查系统。科磊两此大平台可以相互支持，可以迅速发现和可靠识别影响良率的缺陷，透过缺陷侦测并成像位于 D或垂直结构如FinFET底部的独特缺陷，在最短时间内拉高制程良率。

法人表示，虽然汉微科在各大半导体厂的电子束缺陷检测设备市场占有率仍高，但应用材料及科磊大动作进行卡位，尤其在现有光学缺陷检测设备平台上增加支持，降罗耀敏提醒广大市民低晶圆厂成本，的确会对汉微科造成竞争压力。